公司新闻 - 微纳设计制造-AG九游登录(集团)有限公司官网

等离子刻蚀的应用案例
2023-08-16

等离子刻蚀主要应用在微电子制作工艺中，所有主要的处理对象是硅，用于精确图形转移。此外其还广泛应用于等离子刻蚀平板、薄膜刻蚀以及纤维刻蚀中。 1...
全球刻蚀设备市场
2023-08-15

目前，全球刻蚀机设备的参与者相对较少，行业整体处于寡头垄断格局。主要的参与者包括美国的Lam Research（泛林半导体）、AMAT（应用材料）、日...
C4凸点技术
2023-08-15

最早的FC晶圆C4凸点制造技术是IBM公司开发的蒸镀工艺，目前最常用的方法是电化学沉积或电镀工艺。芯片凸点的蒸镀工艺流程如下：将钼掩模板对中至...
直写光刻在掩膜版制造过程中的应用
2023-08-14

掩膜版的生产主要包括以下几个流程：图形光刻，显影，蚀刻，脱膜，清洗。其中，图形光刻是通过光刻机进行激光光束直写，以完成图形曝光，掩膜版制造都...
掩膜板的制造和管理
2023-08-14

掩膜板的基材一般为熔融石英（quartz），这种材料对深紫外光（DUV，KrF-248nm，ArF-193nm）具有高的光学透射，而且具有非常低的温度膨...
最佳曝光剂量的确定
2023-08-11

曝光剂量和曝光时间之间的换算因子为了获得根据光刻胶技术数据表中给出的推荐曝光剂量确定的正确地曝光时间，必须知道以下内容: · 曝光...