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产品中试
Product pilot test
I. 键合线:
IV. 特殊封装:
II. 倒装芯片:
V. 特殊封装材料:
III. 特殊芯片:
VI. 失效类型:
只使用氧气刻蚀,对钝化层和芯片不造成任何损伤
开封时间相比传统等离子体开封减少了70%
全自动开封作业
完全保留原始沾污点和失效点
大气压等离子体,显著减少维修和养护成本
2023-08-22
(1)光刻和刻蚀技术 传统的用于制作半导体及集成电路芯片的光刻和刻蚀技术,是微流控芯片加工工艺中最基础的。它是用光胶、掩膜和紫外光进行微细加工...
2023-08-21
通常将传感器的功能与人类的五大感觉器官相比拟: 光敏传感器——视觉 声敏传感器——听觉 气敏传感器——嗅觉 化学传感器——味觉 压敏、温敏、流体传...
近几十年来,等离子刻蚀技术已取得了长足发展。利用等离子刻蚀技术,人们得以准确地雕刻器件结构,从而为晶体管尺寸的缩小以及性能的提升提供了保障。...
2023-08-18
离子注入工艺是集成电路制造的主要工艺之一,它是指将离子束加速到一定能量(一般在keV 至Mev 量级范围内),然后注入固体材料表层内,以改变材料表层...