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电镀
  • 晶圆级电镀
    Au,Cu,Ni,Sn
  • LIGA微细加工
    (1)可制造较大高宽比结构;(2) 可选各种材料;(3)可制作任意截面形状图形结构;(4) 制造成本低
  • 叉指电极:
    提供石英、陶瓷、硅、AlN、塑料等多种衬底的叉指电极测试片,最小线宽1um

案例展示


                            

             Si通孔填充                                   Cu Plating Process                         RF MEMS Plating Process                             TSV及线路电镀







微流控芯片的制作技术(一)
微流控芯片的制作技术(一)

2023-08-22

(1)光刻和刻蚀技术 传统的用于制作半导体及集成电路芯片的光刻和刻蚀技术,是微流控芯片加工工艺中最基础的。它是用光胶、掩膜和紫外光进行微细加工...

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传感器的功能
传感器的功能

2023-08-21

通常将传感器的功能与人类的五大感觉器官相比拟: 光敏传感器——视觉 声敏传感器——听觉 气敏传感器——嗅觉 化学传感器——味觉 压敏、温敏、流体传...

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等离子体刻蚀面临的挑战
等离子体刻蚀面临的挑战

2023-08-21

近几十年来,等离子刻蚀技术已取得了长足发展。利用等离子刻蚀技术,人们得以准确地雕刻器件结构,从而为晶体管尺寸的缩小以及性能的提升提供了保障。...

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离子注入与传统热扩散工艺区别
离子注入与传统热扩散工艺区别

2023-08-18

离子注入工艺是集成电路制造的主要工艺之一,它是指将离子束加速到一定能量(一般在keV 至Mev 量级范围内),然后注入固体材料表层内,以改变材料表层...

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